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COSA STAI CERCANDO?
In base alle caratteristiche del materiale di rame e agli elevati requisiti del 3C, il liquame di lucidatura a base d'acqua di allumina di Kona nano fornisce una buona finitura superficiale senza compromessi sulla velocità di lucidatura.
Secondo la caratteristica attiva del materiale di rame e gli elevati requisiti della fabbricazione 3C, è una sfida ottenere una finitura superficiale a specchio senza compromessi sulla velocità di lucidatura.
Il rame è un metallo morbido (durezza Mohs 3), ed è un metallo altamente reattivo e si ossida molto facilmente. Ciò aumenta la difficoltà di lucidare accessori in rame per computer e telefoni cellulari.
Il nostro liquame di lucidatura del rame è progettato per il processo di lucidatura degli accessori in rame 3C (che è principalmente un processo CMP), è un liquame di lucidatura nano allumina a base d'acqua aggiunto un additivo speciale per la caratteristica del rame.
Kona Copper Polishing Slurry fornisce una finitura superficiale a specchio senza compromessi sulla velocità di rimozione e può anche ottenere un buon valore di lucentezza, come centinaia di gu.
Il rame ha una buona conduttività elettrica, conducibilità termica e resistenza alla corrosione, bassa durezza, forte duttilità e buona lucentezza ed è ampiamente utilizzato nell'industria 3C, in particolare in vari accessori per telefoni cellulari.
La lucidatura del rame ha non solo i requisiti di planarità e rugosità, ma anche i requisiti di lucentezza.
Kona fornisce liquami di lucidatura a base di nano allumina e silice a base colloidale per accessori in rame.
| Nome Pro | Lucidatura del rame Liquido |
| Base abrasiva | Silice colloidale |
| Aspetto | Liquido bianco |
| PH | 5-11 |
| Tipo di solvente | A base d'acqua |
| Shelf Life | 12 mesi |
| Nome Pro | Liquame lucidante in rame |
| Base abrasiva | Allumina |
| Aspetto | Liquame bianco |
| PH | 2-6 |
| Tipo di solvente | A base d'acqua |
| Shelf Life | 12 mesi |
Liquame di lucidatura per cooper, in particolare substrato ceramico ricoperto di cooper.
